供应坩埚喷涂台、多晶硅坩埚氮化硅喷涂台、喷涂台的技术规格：

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　坩埚喷涂烘烤装置是多晶硅铸锭炉的辅助工艺装备，用于对铸锭炉所使的石英坩埚进行脱模剂（SiN 粉末）涂层喷涂。该装置是铸锭炉必备附机，采用先进的温控匀热技术及美国产高精密防飞雾喷枪，能帮助用户完成高质量的坩埚喷涂，并减少原料的消耗！
　　根据用户需求，坩埚喷涂烘烤工艺装备包括双向回转加热器、脱模剂（SiN）泵送系统、坩埚烘箱等辅助附件组成。
技术参数
a、SiN 搅拌器 驱动方式： 气动；
搅拌速度：0～300rpm 无级可调；
b、蠕动泵驱动方式：气动；
泵送方式：压送；
c、溢流阀：溢流压力可调；
d、喷枪雾化锥度：可调；
出口压力：15～40psi
e、气枪： 出口压力：80～100psi；
f、气源供气压力：6～8kg/cm2，符合DIN ISO 8573-1 3 标准，干燥、洁净、去油的压缩空气；
g、脱模剂 SiN 粉末， 粒度≤0.26mm；
h、纯水（用户自备） 工业一级，符合GB/TII446.1-1997 EW-I 要求；0二、喷涂台的技术规格：该喷涂台适用于多晶硅坩埚的氮化硅涂层的喷涂。喷枪采用美国产的精密可调非金属喷枪，搅拌器采用非金属材料制成，在喷涂过程中绝对没有金属杂质进入。a、SiN搅拌器驱动方式：气动；
搅拌速度：0～300rpm无级可调；
b、蠕动泵驱动方式：气动；
泵送方式：压送；
c、溢流阀：溢流压力可调；
d、喷枪雾化锥度：可调；
出口压力：15～40psi
e、吹枪：出口压力：80～100psi；
f、气源供气压力：6～8kg/cm2，符合DIN ISO 8573-1 3标准，干燥、洁净、去油的压缩空气；
g、脱模剂SiN粉末，粒度≤0.26mm；
h、纯水（用户自备）工业一级，符合GB/TII446.1-1997 EW-I要求；