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- 所在地:江苏 苏州市
主要功能:设备用于清洗硅片。在扩散过程完成后,在硅片表面形成一层非晶或磷硅玻璃,在镀膜前,需要用HF酸腐蚀去除。镀膜(减反射膜)主要用来减少硅片表面对光的反射,一定厚度的减反射膜可以引起入射光和反射光的干涉,从而减少光的反射。如果不将硅片做去磷硅玻璃清洗就镀膜,则会大大的降低硅片的转换效率。
序号 规格 参数(参考)
1 整机尺寸 9450mm(L)*1900mm(W)*2240mm(H)
2 被清洗硅棒尺寸 125×125×0.20mm/156mm×156mm×0.20mm
3 最大产量 2000片/小时(125*125*0.2mm)1600片/小(156*156*0.2mm)
4 操作方式 全自动
5 电力供应 30KW,3相交流电380伏50赫兹