光伏 - 核心部件

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光伏 - 核心部件          冯•阿登纳公司拥有真空工艺的专业技术并能提供光伏薄膜领域几乎所有光谱的独立的核心部件。电子束和等离子体技术适用于不同工艺温度条件下，大面积的功能层和导电层的沉积。真空工艺技术可以在不同的基材上沉积极薄的涂层，诸如玻璃、硅片、金属带或塑料薄膜。

磁控溅射源      磁控溅射源在低压和氩气状态下产生一个增强等离子体放电的磁场。通过正极氩离子轰击作为负极的镀膜材料（靶材），靶材表面的单个原子被撞击出来。这些原子凝结在基片表面从而形成一个连续的薄膜。加入反应气体，如氮气或氧气，可以进一步触发等离子体化学反应。通过这种方法可以形成氮化物和氧化物薄膜。

      磁控溅射源可以实现大面积的高精度的复杂化合物沉积。因此，这些磁控溅射源形成了生产多种光伏薄膜系统的镀膜工艺基础。带旋转靶材的磁控溅射源      在溅射过程中圆柱形靶材保持旋转，因此其表面剥离几乎一致。与平面靶磁控溅射源相比，高达85%的靶材利用率和较高的工作寿命可以显著降低镀膜成本。磁控溅射       通过选择合适的溅射源类型和靶材、加入适当的反应气体，我们可以生产出绝大多数光伏膜层，同时膜层具有高上膜率和高均匀度。比如：透明导电层（ITO, ZnO:Al）背电极（Ag, Al, Mo等）钝化层（SiNx:H）半导体前电极电子束枪      电子束枪被应用在金属和电介质复合材料的高速蒸发上。大功率电子束以可编程的能量分布直接射向源材料。通过这种方式，电子束枪产生高温和高蒸发率。热蒸发物质沉积在表面并持续不断地形成高质量的膜层。电子束蒸发        范围广泛的不同配置使得原材料和复合物的蒸发对光伏技术应用意义重大，比如：半导体层导电层（Mo, Ag, Al等）电介质层（防反射涂层：SiO2）