HDS320系列扩散炉

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◆  设备用途      该设备是晶体硅太阳电池制造过程中不可或缺的关键设备之一，主要用于晶体硅太阳电池制造中硅片的扩散掺杂与氧化工艺。◆  产品亮点1、唯一能适应高阻高效和变浓度扩散工艺的国产设备 2、领先国内同行的实际扩散均匀性3、扩散综合使用成本较第三代设备降低20%以上4、单位综合能耗下降20%以上5、设备有效工作时间较第三代国产设备高5%以上6、适用于P型电池、N型电池、退火和低压扩散工艺◆  主要技术参数 

序号	指 标 项 目	指  标  值
1	工艺方式	软着陆闭管
2	反应管有效内径	ø320mm，适用于 □125mm，□156mm
3	炉管数	1管、2管、3管、4管、5管
4	生产能力	≥1000片/批/管
5	加热温度	RT～1250℃
6	工作温度范围	400～1100℃
7	温度控制方式	5点控温，内外双模控制
8	恒温区长度及精度	≤±0.5℃/1100mm（800~1100℃），≤±1℃/1100mm（400~800℃）
9	温度稳定性	≤±0.5℃/4h（880℃）
10	温度斜变能力	a．最大可控升温速率： 20℃/min.b．最大降温速率：  8℃/min.c．RT→工艺温度    ≤50min.
11	具有自动斜率升温及快速恒温功能
12	降温方式	立体水冷+风冷
13	净化装载台净化方式与净化级别	垂直层流，1000级(10000级厂房)，或100级（1000级厂房）
14	送舟方式	采用SiC悬臂桨自动水平送片，舟速20～1000mm/min连续可调；定位精度≤±1mm；最大承载重量为18kg
15	尾气处理方式	尾部集中收集，冷凝气液分离后定向排放
16	气体控制与输送方式	MFC精确控制流量，高洁净内抛光不锈钢管与PFA管输送，气动隔膜阀通断，全进口件气体控制与输送系统
17	压力控制方式	闭环全自动
18	炉口环境隔离方式	气帘扫吹技术
19	工艺过程控制	全自动，PLC+工控机，触摸屏操作
20	工艺管理功能	每管可存储超过200条工艺曲线，每条曲线不少于30个拐点
21	报警保护功能	全面的超温、断偶、短路、停水、停气、误操作等报警连锁保护
22	设备总功率	峰值功率50KW/每管；保温功率约15KW/每管
23	设备外形尺寸	6470×1875×3275（L×W×H，mm，4管）6870×2025×3000（L×W×H，mm，5管）