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设备用途：主要用于晶体硅太阳能电池制造中电池片的减反射膜生长，也可用于在电池片的背面沉积钝化膜。
工艺流程：石墨舟及硅片准备→管内充氮气→进舟→抽真空，压力测试→氨气预清理和检查→管路抽真空，测漏，恒温→预镀膜→镀膜→抽真空，压力测试→清管路，充氮气→退舟
技术特点Technical characteristics
5段控温恒温区
数字化控制，消除了模拟变量传输的干扰
工艺舟自动装载
进口射频电源，脉冲式放电
进口防腐蚀干泵
炉口的特殊设计
进口阀门及自动压力调节、全进口VCR接头
精确温度控制系统
中央计算机集中控制
与进口产品工艺品质一致，具备优越的性价比优势
业内领先的背面钝化叠层膜技术，有效提高晶体硅电池的转换效率
