链式SE刻蚀设备

手机扫描查看

工艺流程：上料→滴水保护→背刻→纯水喷淋1→正刻→纯水喷淋2→粗碱洗→纯水喷淋3→精碱洗→纯水喷淋4→酸洗→纯水喷淋5→烘干→下料 

技术特点：

●背刻采用先进的防过刻膜保护技术和独创的非连续式多重刻蚀技术，无刻蚀线产生。

●正刻、背刻副槽均采用高精度超声波液位检测仪，碱洗、HF酸洗副槽配液采用超声波液位感应器监控，保证配液的精度±1%。刻副槽制冷采用新型结构的在线式制冷，保证工艺温度的可控性。

●传动采用编码器测速反馈变频器控制，保证传动速度的稳定性。

●设备采用新型压杆结构，降低硅片的破片率。

●硅片段间工艺槽表面采用新型的吸水辊结构及压缩空气风切的双重切水方式，保证各段工艺的稳定性。

●设备主槽插件板及插件采用新型结构，保证设备传动的平稳性及水平度。

●设备拥有硅片规正装置，保证硅片从上料到下料的整齐度。

●设备喷淋管、风切管采用新型结构固定装置，保证设备维护的方便性。

●设备内部所有槽采用双层结构并配备有滴液检测保护，杜绝化学品泄漏。每个观察窗均有开门保护，一旦有违规开启，设备立即报警。